超高真空多腔体磁控溅射系统
技术参数：
基板：可加热至RT-900ºC，可旋转，基板与靶材距离连续可调，晶圆和靶空间可以连续变化
极限真空：<3E-9Torr
基板传输：高度可靠和可重复的基板传输能力
核心产品详情
超高真空多腔体磁控溅射系统
产品参数
优先展示后台已配置的完整参数品牌韫茂科技
价格0.00
发货地福建省厦门市集美区
型号QBT-MP
范围0.2un--1.5un可控
应用行业小型试验设备
详细信息
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