真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段，在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉，可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火，也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导，系统搭配控制软件，运行稳定可靠!
性能参数
晶圆尺寸 | 1inch-8inch |
极限真空 | 5×10-8mbar |
温控 | RT-1200℃，精度±1℃ |
加热方式 | SIC辐射加热 |
气体氛围 | 可在O2等环境下加热 |
互联 | 可与工艺腔体互联实现自动传输 |
真空系统 | 机械泵+分子泵 |
可选 | 磁铁模块、进样室、气氛退火等 |