生产型磁控溅射设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计，通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。
性能参数
晶圆尺寸 | 8吋向下兼容 |
| 极限真空 | 优于5×10-10mbar |
| 对接口 | 每节管道可连接一套系统，对接口CF250及以下。 |
| 传输装置 | 磁力传输，可同时传输多片 |
| 进样室 | 可选配独立进样室 |
| 校准装置 | 光电传感器 |
| 真空系统 | 机械泵+分子泵，可选离子泵等 |
控制系统 | PC+PLC 安全互锁，碰撞保护,真空互锁等 |