硫化锗（GeS）靶材是一种重要的半导体材料，在多个领域有着广泛的应用。以下是硫化锗靶材的主要用途：
半导体器件制造
硫化锗靶材在半导体器件制造中具有重要作用。它可用于制造各种半导体器件，如光电探测器、红外传感器等。
光电应用
由于硫化锗具有良好的光电性能，它被广泛应用于光电领域。例如，它可以用于制造红外光学元件、光纤通信设备等。
纳米材料制备
硫化锗靶材还可以用于纳米材料的制备。通过物理气相沉积（PVD）等方法，可以将硫化锗靶材转化为纳米级别的硫化锗颗粒，这些颗粒在催化、储能等领域有潜在的应用前景。
薄膜制备
硫化锗靶材常用于薄膜制备。通过磁控溅射等技术，可以在基底上沉积一层均匀的硫化锗薄膜。这种薄膜在太阳能电池、热电材料等方面有重要应用。
研究与开发
在科学研究中，硫化锗靶材也扮演着重要角色。研究人员利用硫化锗靶材进行材料性质的研究，探索其在新型电子器件、光电器件中的应用潜力。
综上所述，硫化锗靶材因其优异的物理化学性质，在半导体器件制造、光电应用、纳米材料制备、薄膜制备以及研究与开发等多个领域都有着广泛的应用前景。
本公司主营产品如下
金属靶材：高低纯铬2N5 3N 3N5 Cr， 高纯钛 4N 4N5 Ti，高纯镍Ni, 地高纯锆Zr, 钪Sc,高纯钨W， 高纯钼Mo；高纯铪 3N5 Hf, 高纯钽Ta;铌Nb;高纯铝 4N 4N5 5N 6N Al;单晶硅，掺杂硼(Mono Si ) ，多晶硅(Poly Si )，本征硅，不掺杂(Si undoped)，锗靶材(Ge)；金属方块或者立方体10x10x10，25.4x25.4x25.4;锰Mn, 钇Y，镱Yb等
合金靶材：铝铬AlCr，铝钛AlTi，镍铬NiCr，钴铁硼CoFeB，钨钛WTi，铜镍钛CuNiTi ，铜镍CuNi,铝钪AlSc，碲锗靶材(Ge15Te85at%)；镍钒NiV;镍铁NiFe，镍钛NiTi,镍钴NiCo, 镍铝NiAl, 镍铬硅NiCrSi,铁钴钽锆FeCoTaZr,铁锰铜镓FeMnCuGa; 铜铟镓CuInGa等。
氧化物陶瓷靶材：
氧化铟锡ITO,IWO,氧化锌铝AZO,氧化锌掺杂嫁GZO, 氧化铟锌靶材IZO, 氧化铟镓锌IGZO, 氧化锌/氧化锡ZTO;,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2 氧化铝Al2O3,三氧化二铬Cr2O3,氧化钇靶Y2O3,氧化锌ZnO,氧化锑Sb2O3,二氧化锡SnO2,氟化镁MgF2,硫化锌ZnS; MoS2+W,ZrO2+Y2O3,Na2O97.5/2.5at%,MoSi+SiC80/20wt%,ZnO+ZnS75/25wt%；氧化铈(CeO2),氧化铬(Cr2O3),氧化铁(Fe2O3),氧化铟(In2O3),铟锡混合物(ITO),氧化钼(MoO3)，氧化钨(WO3)，氧化镍(NiO)，氧化镓（Ga2O3)；钛酸镧(La2Ti2O7),氧化镁(MgO),氧化铌(Nb2O5),一氧化硅(SiO),二氧化硅(SiO2),五氧化二钽(Ta2O5),三氧化二钛(Ti2O3),五氧化三钛(Ti3O5),一氧化钛(TiO),二氧化钛(TiO2),氧化钇(Y2O3),氧化锌(ZnO),氟化铝(AlF3),氟化钡(BaF2),氟化铈(CeF3),氟化镧(LaF3),氟化锂(LiF)，六硼化镧(LaB6)等
稀土金属靶材:铈Ce, 钕Nd,钐Sm,铕Eu, 钆Gd,铽Tb,镝Dy,钬Ho,铒Er,铥Tm,镱Yb,镥Lu,钇Y,钪Sc
贵金属靶材:银Ag,金 Au,钌 Ru, 铼 Re, 钯 Pd,铂 Pt。
蒸发颗粒镀膜：金属颗粒，陶瓷颗粒，蒸发锥台，坩埚 锥台 钨坩埚 钼坩埚 钽坩埚 铬锥台；二氧化硅颗粒(SiO2)； 氧化锌颗粒(ZnO)； 二氧化铪颗粒（黑色）(HfO2)； 氟化铝颗粒(AlF3) ；氧化镁颗粒(MgO) ；五氧化三钛颗粒(Ti3O5) ； 二氧化锡颗粒(SnO2)；氧化钨颗粒(WO3)；二氧化铈颗粒(CeO2)；氧化钽颗粒(Ta2O5);镍颗粒Ni，铬颗粒Cr，锗颗粒Ge，硅颗粒Si；高纯镁颗粒；铝颗粒Al;铜颗粒Cu;钴颗粒Co
粉末材料：金属粉体，氧化物粉体，碳化物粉体，氮化物粉体，硫化物粉体，硼化物粉体，硅化物粉体以及特殊功能粉体，产品数目多达70多种；比如纳米镍粉(Ni)，氧化硼(BO)，氧化镍(NiO)，球形钴粉(Co)，球形铝粉(Al)，镍粉(Ni)，锆粉(Zr)，钛粉(Ti)，铬粉(Cr)，硅粉(Si)，铋粉(Bi)，氧化亚铜(Cu2O)等
原材料供应：
单质金属材料:铟锭In，电解锰片颗粒Mn，铬颗粒Cr，钛板Ti，铝板,铝锭，铝棒Al，镓锭Ga,镁板,镁棒,镁丝Mg;高纯铜锭Cu;高纯钴Co等
中间合金材料:铝中间合金,镁中间合金
合金材料:镍基合金,高温合金。
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