钨靶材的应用
半导体行业中的应用
钨靶材在半导体行业中扮演着重要角色，主要体现在以下几个方面：
高温部件
钨钯材料因其高温稳定性和耐腐蚀性、导电性等特性，在半导体设备的高温部件中得到广泛应用，如炉管和加热体等。
氧化钨薄膜
高纯钨靶材常被用来生产厚度超小的氧化钨薄膜，这种新型氧化钨薄膜能作为半导体的扩散阻挡层、粘结层和大型集成电路存储器电极等，进而显著提高芯片产品的综合质量。
溅射法
溅射法是制备氧化钨薄膜材料的主要技术之一，通过高速运动的离子轰击钨靶材，产生的原子放射出来累积在基体的表面，形成镀膜。
平面显示器和太阳能电池
钨靶材广泛应用于平面显示器、太阳能电池等产品中。
集成电路
钨靶材在制造半导体设备的过程中用于沉积导电层和屏障层，对提高集成电路的性能和可靠性至关重要。
碳化钨靶材的特殊应用
碳化钨靶材以其极高的硬度和良好的导热性，在特定领域有着不可替代的优势：
制造硬质涂层和耐磨材料
碳化钨靶材以其极高的硬度闻名，其硬度仅次于钻石，这使得其在制造硬质涂层和耐磨材料中具有不可替代的优势。
航空航天领域的应用
碳化钨靶材适用于航空航天等要求极高可靠性的领域，提高了材料的耐热性和抗氧化能力。
本公司主营产品如下
金属靶材：高低纯铬2N5 3N 3N5 Cr， 高纯钛 4N 4N5 Ti，高纯镍Ni, 地高纯锆Zr, 钪Sc,高纯钨W， 高纯钼Mo；高纯铪 3N5 Hf, 高纯钽Ta;铌Nb;高纯铝 4N 4N5 5N 6N Al;单晶硅，掺杂硼(Mono Si ) ，多晶硅(Poly Si )，本征硅，不掺杂(Si undoped)，锗靶材(Ge)；金属方块或者立方体10x10x10，25.4x25.4x25.4;锰Mn, 钇Y，镱Yb等
合金靶材：铝铬AlCr，铝钛AlTi，镍铬NiCr，钴铁硼CoFeB，钨钛WTi，铜镍钛CuNiTi ，铜镍CuNi,铝钪AlSc，碲锗靶材(Ge15Te85at%)；镍钒NiV;镍铁NiFe，镍钛NiTi,镍钴NiCo, 镍铝NiAl, 镍铬硅NiCrSi,铁钴钽锆FeCoTaZr,铁锰铜镓FeMnCuGa; 铜铟镓CuInGa等。
氧化物陶瓷靶材：
氧化铟锡ITO,IWO,氧化锌铝AZO,氧化锌掺杂嫁GZO, 氧化铟锌靶材IZO, 氧化铟镓锌IGZO, 氧化锌/氧化锡ZTO;,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2 氧化铝Al2O3,三氧化二铬Cr2O3,氧化钇靶Y2O3,氧化锌ZnO,氧化锑Sb2O3,二氧化锡SnO2,氟化镁MgF2,硫化锌ZnS; MoS2+W,ZrO2+Y2O3,Na2O97.5/2.5at%,MoSi+SiC80/20wt%,ZnO+ZnS75/25wt%；氧化铈(CeO2),氧化铬(Cr2O3),氧化铁(Fe2O3),氧化铟(In2O3),铟锡混合物(ITO),氧化钼(MoO3)，氧化钨(WO3)，氧化镍(NiO)，氧化镓（Ga2O3)；钛酸镧(La2Ti2O7),氧化镁(MgO),氧化铌(Nb2O5),一氧化硅(SiO),二氧化硅(SiO2),五氧化二钽(Ta2O5),三氧化二钛(Ti2O3),五氧化三钛(Ti3O5),一氧化钛(TiO),二氧化钛(TiO2),氧化钇(Y2O3),氧化锌(ZnO),氟化铝(AlF3),氟化钡(BaF2),氟化铈(CeF3),氟化镧(LaF3),氟化锂(LiF)，六硼化镧(LaB6)等
稀土金属靶材:铈Ce, 钕Nd,钐Sm,铕Eu, 钆Gd,铽Tb,镝Dy,钬Ho,铒Er,铥Tm,镱Yb,镥Lu,钇Y,钪Sc
贵金属靶材:银Ag,金 Au,钌 Ru, 铼 Re, 钯 Pd,铂 Pt。
蒸发颗粒镀膜：金属颗粒，陶瓷颗粒，蒸发锥台，坩埚 锥台 钨坩埚 钼坩埚 钽坩埚 铬锥台；二氧化硅颗粒(SiO2)； 氧化锌颗粒(ZnO)； 二氧化铪颗粒（黑色）(HfO2)； 氟化铝颗粒(AlF3) ；氧化镁颗粒(MgO) ；五氧化三钛颗粒(Ti3O5) ； 二氧化锡颗粒(SnO2)；氧化钨颗粒(WO3)；二氧化铈颗粒(CeO2)；氧化钽颗粒(Ta2O5);镍颗粒Ni，铬颗粒Cr，锗颗粒Ge，硅颗粒Si；高纯镁颗粒；铝颗粒Al;铜颗粒Cu;钴颗粒Co
粉末材料：金属粉体，氧化物粉体，碳化物粉体，氮化物粉体，硫化物粉体，硼化物粉体，硅化物粉体以及特殊功能粉体，产品数目多达70多种；比如纳米镍粉(Ni)，氧化硼(BO)，氧化镍(NiO)，球形钴粉(Co)，球形铝粉(Al)，镍粉(Ni)，锆粉(Zr)，钛粉(Ti)，铬粉(Cr)，硅粉(Si)，铋粉(Bi)，氧化亚铜(Cu2O)等
原材料供应：
单质金属材料:铟锭In，电解锰片颗粒Mn，铬颗粒Cr，钛板Ti，铝板,铝锭，铝棒Al，镓锭Ga,镁板,镁棒,镁丝Mg;高纯铜锭Cu;高纯钴Co等
中间合金材料:铝中间合金,镁中间合金
合金材料:镍基合金,高温合金。
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