产品介绍:
该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，适用于室温至1200℃条件下进行Si02、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，Sic膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料，尤其适合干有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
核心产品详情
PECVD系统
产品参数
优先展示后台已配置的完整参数品牌科佳电炉
价格0.00
发货地河南省郑州市
型号PECVD系统
范围--
应用行业该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工厂企业做的理想产品。
详细信息
郑州科佳电炉有限公司 AI 产品顾问
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