300钟罩镀膜机
型号 | EVAP400S | |
主真空室 | 方形前开门结构，尺寸L×W×H:400×400×450mm | |
进样室(选配) | 开门结构，尺寸约为ø200 X 300mm | |
真空系统配置 | 主真空室 | 复合分子泵、机械泵、气动闸板阀 |
进样室 | 机械泵、分子泵、阀门 | |
极限压力 | 主真空室 | ≤6. 67x10-5pa(经烘烤除气后） |
进样室 | ≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后） | |
恢复真空时间 | 主真空室 | 30分钟可达到6. 6x10-4 pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气） |
进样室 | 30分钟可达到6. 6x10-3 Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气） | |
磁控靶组件 | 2-4套永磁靶；靶材尺寸ø60mm (其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频溅射和直流溅射兼容；靶内水冷；三个靶可共同折向上面的样品中心；靶与样品距离90~110mm可调；每个靶配气动挡板。 | |
基片加热台 | 样品尺寸 | ø3英寸 |
运动方式 | 基片可连续回转，转速0-30rpm | |
加热 | 基片加热**温度600℃±1℃ | |
挡板形式 | 进口SMC转角气缸控制 | |
工艺气路系统 | 质量流量控制器2-4路 | |
*可选部件 | 进样室磁控靶组件 | 永磁靶，靶材尺寸ø 60mm。 |
膜厚仪 | 国产/进口 | |
静音气泵 | 无油润滑 | |
计算机控制系统 | 自动控制、工艺读入、参数设置、实时监控等功能 | |
设备占地面积 | 主机 | 1800X1200mm2 |