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CVD法二硫化钨薄膜

参考价 面议 浏览 0 更新 2025-11-15 10:54 返回产品列表

产品参数

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品牌碳丰
价格0.00
发货地江苏省苏州市吴中区
型号TF-005
范围30nm
应用行业高新企业

详细信息

制造方法:
化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)

 

产品简介:
1) 单层离散分布的三角状单晶晶粒,三角边长一般是几十至一百微米。
2) 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3) 多层WS2 连续薄膜。
4) 基底:WS2可选基底较多,其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如:SiO2/Si, 硅片,PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。

 

应用领域:
光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。

 

包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,
净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。
单面抛光蓝宝石基底WS2

单层WS2孤立晶粒

单层WS2连续薄膜


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