产品特点
纯度高,金属杂质含量<2ppm
>材料致密,无针孔、微裂纹缺陷
适用于半导体光刻、氧化扩散、刻蚀等多种设备
制备工艺根据产品需求定制
稳定性好,使用寿命长
应用领域
>半导体芯片制造
精简顾问模式,可继续咨询产品参数、适用工况、报价方式、交付周期和合作细节。