氮化硅压力炉设备用途:
氨化硅基板，氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点:
1.温度:max2400摄氏度
2.温度分布精度:R10
3.发热体:石墨
4.压力:1Mpa
5.气氛:N2环境，氧含量小于100ppm
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氮化硅压力炉
详细信息 氮化硅压力炉设备用途: 氨化硅基板，氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点: 1.温度:max2400摄氏度 2.温度分布精度:R10 3.发热体:石墨 4.压力:1Mpa 5.气氛:N2环境，氧含量小于100ppm |