| 应用领域
应用于碳化硅(SiC)、蓝宝石(Sapphire)、氮化镓(GaN)、陶瓷、MEMS、光学产品等材料的加工。
| 适用范围
✦ 陶瓷盘尺寸:Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm(可兼容)
✦ 产品尺寸:2、4、6寸(可兼容)
✦ 研磨效率:约2um~3um/min(具体视工艺而定)
✦ 清洗效率:约2min/盘(具体视工艺而定)
✦ 清洗液温度:40℃(具体视工艺而定)
| 应用领域
应用于碳化硅(SiC)、蓝宝石(Sapphire)、氮化镓(GaN)、陶瓷、MEMS、光学产品等材料的加工。
| 适用范围
✦ 陶瓷盘尺寸:Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm(可兼容)
✦ 产品尺寸:2、4、6寸(可兼容)
✦ 研磨效率:约2um~3um/min(具体视工艺而定)
✦ 清洗效率:约2min/盘(具体视工艺而定)
✦ 清洗液温度:40℃(具体视工艺而定)
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