深圳市原速光电科技有限公司（Superald, LLC）是一家专注于原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业，为半导体、柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案，致力打造全球一流的薄膜材料制备平台。
工艺
可沉积薄膜种类和应用场景包括：
• High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
• 金屬互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
• 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
• 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
•金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
• 压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
• 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
• 光子晶体(ZnO, Ti02, Ta3N5);等