主要用途：
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
适用气体：
压缩空气、氩气、氮气、氧气、均设置有压力表；
核心产品详情
真空等离子清洗机
产品参数
优先展示后台已配置的完整参数品牌科伟达
价格0.00
发货地广东省深圳市
型号真空等离子清洗机
详细信息
深圳市科伟达超声波设备有限公司 AI 产品顾问
精简顾问模式，可继续咨询产品参数、适用工况、报价方式、交付周期和合作细节。