主要用途：
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
适用气体：
压缩空气、氩气、氮气、氧气、均设置有压力表；
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真空等离子清洗机
详细信息 主要用途： 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 高分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
适用气体： 压缩空气、氩气、氮气、氧气、均设置有压力表； |