Sciyea二氧化硅抛光液主要由高纯度的氧化硅微粉所组成。可避免加工时易产生的刮伤现象，适用于工件的精抛，能达到工件要求的镜面效果，可替代同类进口产品。
基本信息
适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工；
PH值稳定基本保持不变
含量15-45（w%）
广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光
特性
粒径均一（粒径分布窄，形貌成正球状）
抛光效率高（特殊配方，PH稳定不变）
高平坦度（表面质量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
循环次数多，使用寿命长
结晶速度慢，性能稳定
产品详情
| 型号 | 中心粒径（nm） | PH值 | 应用领域 |
3800 | 20-40 | 10.0 | 单晶硅、碳化硅、砷化镓、激光晶体等化合物半导体。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 蓝宝石衬底、激光晶体、光学晶体、铌酸锂、钽酸锂等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 激光晶体、精密金属、铝合金、氧化铝陶瓷。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化铝陶瓷 |