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上海研倍新材料科技有限公司  

半导体材料、溅射靶材定制

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首页 > 供应产品 > 氧化铝 Al2O3 高纯陶瓷靶材
氧化铝 Al2O3 高纯陶瓷靶材
单价 面议对比
询价 暂无
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发货 上海市
品牌 上海研倍
型号 RDB-BC-Al2O3
范围 可定制
过期 长期有效
更新 2025-11-15 10:54
 
详细信息

上海研倍新材料 专业生产定制 各类靶材 合金靶材

1、产品信息   

货号

厚度

纯度(%)

形貌

颜色

RDB-BC-Al2O3

可定制

99.9

靶材

白色或浅灰色

2、产品规格

定制

3、产品概述

氧化铝Al2O3靶材是一种硬质、化学稳定性高的材料,广泛应用于薄膜制备过程中。它能够提供稳定的溅射源,用于制备具有优异物理、化学性能的薄膜材料。在半导体领域,氧化铝靶材用于制造集成电路中的绝缘层和介电层,提高电路的性能和可靠性。在光电器件中,氧化铝靶材用于制备透明导电膜和抗反射层,提升器件的光电转换效率。

4、产品用途

薄膜沉积:氧化铝靶材可用于物理气相沉积 (PVD) 或化学气相沉积 (CVD) 过程,用于制备氧化铝薄膜,这些薄膜可用于绝缘层、保护层或介电层。

光学涂层:氧化铝靶材可用于制备光学涂层,如抗反射涂层、反射镜涂层等。

硬质涂层:氧化铝薄膜可用于制备硬质涂层,如陶瓷涂层、刀具涂层等。

电子器件:氧化铝靶材可用于制备电子器件中的绝缘层或介电层,如集成电路、光电子器件等。

电磁屏蔽:ATO材料对微波的衰减性使其在计算机房、雷达屏蔽保护区等需要屏蔽电磁波的领域有应用潜力。

激光吸收材料:ATO纳米粉体因其在特定波长范围内的强吸收能力,可以用作激光吸收材料。