1、产品信息
货号 | 厚度 | 纯度（%） | 形貌 | 颜色 |
RDB-BC-Ta | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 金属灰色或银灰色 |
2、产品规格
定制
3、产品概述
钽（Ta）靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺，主要应用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性的薄膜。由于钽具有良好的化学稳定性和高熔点，因此在这些领域中得到广泛应用。例如，钽靶材可用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性能的薄膜，如在半导体制造、光学涂层、热防护膜等领域。此外，钽靶材还可用于制备具有特殊功能的薄膜，如防腐蚀膜、导热膜等。
4、产品用途
高纯度：钽靶材通常具有高纯度，能够满足各种工艺对材料纯度的要求。
工艺适用性：钽靶材可用于不同的薄膜沉积工艺，包括物理蒸发沉积和磁控溅射等。
应用领域：钽靶材在半导体制造、光学涂层、装饰膜等领域有广泛的应用。
性能优异：钽靶材具有良好的化学稳定性和耐腐蚀性能，能够满足高端产品对材料性能的要求。