微纳米硅化铪粉
技术参数
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产品归类 |
型号 |
平均粒径（um） |
纯度 |
比表面积 （m2/g） |
体积密度（g/cm3） |
晶型 |
颜色 |
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微纳级 |
CW-HfSi2-001 |
<1.0 |
99.5 |
12.47 |
5.12 |
立方 |
黑色 |
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超细级 |
CW-HfSi2-002 |
1-3um |
99.5 |
10.25 |
5.36 |
立方 |
黑色 |
| 微米级 | CW-HfSi2-005 | 325目 | 99.5 | 3.16 | 6.79 | 立方 | 灰黑色 |
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加工定制 |
根据客户需求适当调整产品纯度及粒度 |
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主要特点
微纳米二硅化铪粉、微米二硅化铪粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，耐高温，抗氧化，硬度高，是一种工程材料，在各个领域有着应用。高熔点(1680℃)、高硬度、高稳定性以及良好的导电性、导热性、抗氧化性。
应用领域
二硅化铪主要用于制造溅射靶材，雷达航空航天、电子工业、仪表仪器、医疗器械等
技术支持
可以提供微纳米硅化铪粉在耐磨涂层、航空航天、复合材料中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果