AltraPure® Max 系列在线式气体过滤器,设计为过滤≥3nm(0.003μm)颗粒物的工艺气体。
为大工作流量范围(0~1000slpm)、高杂质含量工艺气体应用提供了一个具有成本效益的过滤解决方案。
过滤器具有优秀的化学兼容性,适用于所有种类的半导体制程气体,如:化学气相沉积、物理气相沉积、干法刻蚀、氧化、扩散、离子掺杂、光刻显影等干法或湿法制程中工艺反应气体、吹扫气体、保护气体等的过滤。
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详细信息 AltraPure® Max 系列在线式气体过滤器,设计为过滤≥3nm(0.003μm)颗粒物的工艺气体。 为大工作流量范围(0~1000slpm)、高杂质含量工艺气体应用提供了一个具有成本效益的过滤解决方案。 过滤器具有优秀的化学兼容性,适用于所有种类的半导体制程气体,如:化学气相沉积、物理气相沉积、干法刻蚀、氧化、扩散、离子掺杂、光刻显影等干法或湿法制程中工艺反应气体、吹扫气体、保护气体等的过滤。 |