半导体集成电路制造的重要设备之一，主要用于POLY, D-POLY, SiN,TEOS。
LPCVD equipment is one of the important equipments for semiconductor integrated circuit manufacturing,which is mainly used for the growth of LP-POLY,LP-DPOLY,LP-SiN，LP-TEOS thin films.
核心产品详情
LPCVD立式炉
产品参数
优先展示后台已配置的完整参数品牌山东力冠
价格0.00
发货地山东省济南市槐荫区
型号LPCVD立式炉
详细信息
山东力冠微电子装备有限公司 AI 产品顾问
精简顾问模式，可继续咨询产品参数、适用工况、报价方式、交付周期和合作细节。