产品简介
设备用于氮化铝基板、 氮化铝粉等高性能陶瓷单一周期内 真空脱脂烧结等工艺。
产品特点
▲宽幅气流流动，良好气氛均匀性。
▲温度均匀性有两个档次：≤士3℃/5℃。
▲高效快冷，冷却时间：≤8h，急速快冷炉：≤3h。
▲丰富的氮化铝烧结工艺经验。
▲全自动化智能控制， 自动生产单炉次运行曲线报表。
▲采用进口碳毡、石墨发热体。
▲测温装置：钨铢偶+红外测温仪。
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氮化铝真空烧结炉
详细信息 产品简介 设备用于氮化铝基板、 氮化铝粉等高性能陶瓷单一周期内 真空脱脂烧结等工艺。 产品特点 ▲宽幅气流流动，良好气氛均匀性。 ▲温度均匀性有两个档次：≤士3℃/5℃。 ▲高效快冷，冷却时间：≤8h，急速快冷炉：≤3h。 ▲丰富的氮化铝烧结工艺经验。 ▲全自动化智能控制， 自动生产单炉次运行曲线报表。 ▲采用进口碳毡、石墨发热体。 ▲测温装置：钨铢偶+红外测温仪。
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