主要用于半导体功率器件、电力电子器件、精密材料、高性能新材料（如陶瓷、陶瓷金属化等）的真空/气氛热处理（如烧结、封装、退火、时效等）等工艺。
产品性能：
200～1350℃/1600℃，6/3点控温
钼（或钨等）加热，六面/全面加热, 圆形+
前后门加热
快冷、真空压力、气氛等的多工艺控制方式
反应室容积大，高洁净，高生产效率
气氛烧结炉 新闻中心
商品分类
联系方式站内搜索 荣誉资质
友情链接
|
气氛烧结炉
详细信息 主要用于半导体功率器件、电力电子器件、精密材料、高性能新材料（如陶瓷、陶瓷金属化等）的真空/气氛热处理（如烧结、封装、退火、时效等）等工艺。 产品性能： 200～1350℃/1600℃，6/3点控温 钼（或钨等）加热，六面/全面加热, 圆形+ 前后门加热 快冷、真空压力、气氛等的多工艺控制方式 反应室容积大，高洁净，高生产效率 |