产品性能：
4~8寸晶圆工艺，每台1~4/5管
恒温区：800/1000/1250mm
温度：200～1300℃/1350℃
全自动机械手装卸，悬臂/软着陆
晶圆自动倒片，完整的工厂MES系统对接，符合SECSⅡ/HSMS/GEM等标准
配套工艺：
扩散：气态/液态/固态源磷硼扩散
氧化：干氧/湿氧（DCE, HCL）
氮、氢退火，烧结、合金等
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水平氧化扩散炉
详细信息 产品性能： 4~8寸晶圆工艺，每台1~4/5管 恒温区：800/1000/1250mm 温度：200～1300℃/1350℃ 全自动机械手装卸，悬臂/软着陆 晶圆自动倒片，完整的工厂MES系统对接，符合SECSⅡ/HSMS/GEM等标准 配套工艺： 扩散：气态/液态/固态源磷硼扩散 氧化：干氧/湿氧（DCE, HCL） 氮、氢退火，烧结、合金等 |