PECVD设备（等离子体增加强化学气相沉积PECVD）主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。
设备用途和功能特点
1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。
2、设备保护功能强，具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。
3、配置尾气处理装置。
核心产品详情
PECVD设备
产品参数
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价格0.00
发货地广东省深圳市南山区
型号PECVD设备
范围0-120g
应用行业制药业、化学工业、电子及半导体行业
详细信息
鹏城半导体技术（深圳）有限公司 AI 产品顾问
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