红外金面反射炉应用于科研和生产当中，RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快，温度范围宽等特点。
应用：
硅、半导体复合材料的快速退火；
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉；
可用作金属退火炉；
复合材料的耐热性评价炉；
高温膨胀/收缩测试炉；
特点：
抛物型反射面可以使平行的红外灯管提供一个更均匀的加热区域；
仪器参数：
型号 | RHL-P410C | RHL-P65C | RHL-P68C | RHL-P610C | RHL-P616C | RHL-P810C |
温度范围 | RT to 1350 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1100 °C |
加热腔尺寸 | φ 20 mm x | φ 40 mm x | φ 40 mm x 60 mm | Φ40 mm x | Φ40 mm x | Φ50 mm x |
应用 | 该反射炉需配备水冷系统； 温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同； 加热区域是一个参考值； | |||||