| 退火温度均匀性： | ±2.0℃ | 退火温度准确性： | ±2.0℃ |
| 降温速率： | 30℃/s | **升温速率： | 50℃/s |
| 温度范围： | 室温~1200℃ | 样品尺寸： | 2英寸 |
| 产地类别： | 进口 | 仪器种类： | 高真空快速退火炉 |
| 价格区间： | 10万-30万 |
快速热处理（RTP）已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。为了满足市场的需求，ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口，MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能。
特点：
l 快速加热及冷却能力；
l 可在任意气氛中使用；
l 实时观测试样；
l 精确的温度控制；
型号 | MILA-5000Series |
温度范围： | 室温~1200℃ |
加热功率： | 50℃/s（50~1200℃）真空 45℃/s（50~1200℃）氮气氛围 |
温度均匀性： | ±2.0℃（ΔT=4℃）1200℃真空 ±4.5℃（ΔT=9℃）1200℃氮气氛围 |
加热气氛: | 大气、真空、惰性气氛环境下 |
试样尺寸: | MAX：50 square or φ 50 x T5 (mm) |
程序模组： | 温度VS时间设定、Step数256、Program数32（Max）； PID+Fuzzy控制、自动微调、USB通讯、自动/手动切换； |