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氮化铪;hafnium nitride HfN
性质:灰色粉末，立方晶结构。熔点3310℃，显微硬度16GPa。相当稳定，但易为王水、浓硫酸、氟氢酸所腐蚀。具有纯度高粒径小，分布均匀、比表面积大，高表面活性，:灰色粉末，立方晶结构。显微硬度16GPa。由铪和氮在900℃直接反应生成，或由铪卤化物和氨或氮和氢混合气体反应制取。为重要难熔化合物铪合金的重要组分。
产品应用:
氮化铪具有优异的力学、电学、光学、耐高温和耐腐蚀等特性，在机械制造和微电子等领域具有非常重要的应用；纳米氮化铪可以广泛应用于半导体、光电和机械加工等众多领域;纳米氮化铪由于同时集成了多种优异的力学、热学、光学以及耐腐蚀磨损等特性，纳米氮化铪膜有望成为一种高效的光学窗口增透保护涂层材料，可以应用在航空航天的关键光学器件上。HfN是一种熔点高，高硬度，耐磨，抗氧化的新型硬质材料，可用于技术和装饰领域的保护层，刀具的抗磨损外膜以及化学惰性膜和耐高温的保护膜等。