所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形（Mask Pattern），并通过曝光将图形转印到产品基板之上。
掩模版的主要应用于以下领域：
IC（Integrated Circuit，集成电路）
尤其是LSI（Large Scale IC，大规模集成电路）包括Wafer制程及IC Bumping等
FPD（Flat Panel Display，平板显示器）包括PDP、LCD、LED、OLED等
PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）
MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）