分选区口径为210 mm，背景场强 0 - 5T (可调)；主要用于去除新材料制备的微弱磁性杂质。（例高纯氧化铝粉末、氧化锂等）。
技术参数：
背景磁场及分选腔口径可按客户要求定制 | JZ-X-102 | JZ-X-210 | JZ-X-500 |
背景场强(可调) X（GS） | 0-5万 | 0-5万 | 0-6万 |
分选口径（mm） | 102 | 210 | 500 |
冷却方式 | 传导冷却 | 磁体形式 | 立式 |
自动化程度 | 半自动/全自动（可选） | 整机装机功率 | <20kW |
介质种类 | 钢毛、钢棒、钢网等 | ||
适用矿物 | 主要用于去除新材料制备的微弱磁性杂质。（例高纯氧化铝粉末、氧化锂等）。 | ||