高热膜碳化炉

用途：用于高导热材料（PI膜）的真空碳化处理。

特点：

●1600℃以内高温炉体，可完全满足PI膜的碳化处理；

●高精度热电偶分区测温控温，保证测温精度和炉温均匀；

●采用数显化智能控温系统，全自动高精度完成测温控温过程，系统可按给定升温曲线升温，并可贮存四条共40段不同的工艺加热曲线； 

●设备具有测量记录功能，可记录温度参数，数据可查询和拷贝到移动U盘；

●采用台湾电力调整器，非常完善的可控硅超载、短路和误触发，和过压保护；

●采用多通道数据采集，并于人机界面显示与操作，整机运行参数一目了然，易于操作；

●炉体：双层水冷结构,可抽负压真空；具有真空管道界面，增加真空破坏阀，充气孔；

●温度均匀：方笼式石墨棒组合加热方式，温度均匀性好；

●操作方便：炉体采用卧式，前后双门，装料卸料方便，操作简单；

●先进的焦油过滤装置，使得炉内产品挥发分**限度的抽取到炉外，保证了产品的质量和烧结的数量。