适用范围：
应用于第三代半导体材料碳化硅晶片的抛光工序，碳化硅材料具备超硬特性，常规氧化硅抛光液存在抛光效率慢的问题，
本产品在Si面碳化硅抛光上具有很好的表现，它有高效的去除速率，抛光后的碳化硅表面缺陷较少，同时在抛C面碳化硅
时亦可以获得良好的表面质量，从而确保被抛工件有较高的抛光效率及良品率，提高客户产品竞争力。
主要技术指标：
抛光液参数 | |
粒径D50 | 80-120 nm |
PH值 | 2-3 |
固含量 | 5-8% |
颜色 | 紫红色 |
包装 | 5KG/桶 20KG/桶 |
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BGY-717
详细信息 适用范围： 应用于第三代半导体材料碳化硅晶片的抛光工序，碳化硅材料具备超硬特性，常规氧化硅抛光液存在抛光效率慢的问题， 本产品在Si面碳化硅抛光上具有很好的表现，它有高效的去除速率，抛光后的碳化硅表面缺陷较少，同时在抛C面碳化硅 时亦可以获得良好的表面质量，从而确保被抛工件有较高的抛光效率及良品率，提高客户产品竞争力。 主要技术指标：
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