升华法空气骤冷
粒度：≤100 nm，
比表面积：＞45 m2/g
用途：催化剂；电池电极材料；传感器材料；抑烟阻燃材料；光致发光材料；特殊耐磨材料；功能晶体；集成电路；红外探测器；陶瓷电容器；钼制品深加工。
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纳米三氧化钼
详细信息 升华法空气骤冷
粒度：≤100 nm，
比表面积：＞45 m2/g 用途：催化剂；电池电极材料；传感器材料；抑烟阻燃材料；光致发光材料；特殊耐磨材料；功能晶体；集成电路；红外探测器；陶瓷电容器；钼制品深加工。 |