抛光液是一种颗粒分布匀散的胶体，可使硅片表面产生一层氧化膜，再由抛光液中磨粒将其去除，达到抛光目的。通常，抛光液的流速、粘度、温度、成分、pH值等都会对去除效果有影响。自主解决了抛光液三大系列(硅系列、铝系列、铈系列)核心原材料问题。
核心产品详情
CMP 研磨液
产品参数
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价格0.00
发货地湖北省武汉市
型号CMP 研磨液
应用行业※ 用于计算机/跑步机等电接触面或需接地部位，铜/铝等金属导体接头、导电滑环的导电、润滑与防护。
详细信息
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