纳米高纯硅研磨粒子是抛光液*主要的组成部分，在抛光过程中通过微切削、滚压等方式作用于
被加工材料表面，达到机械去除材料的作用。纳米高纯硅是以水玻璃为原材料制备的硅溶胶研磨粒
子。鼎龙自主开发了具有纯度高、粒径分布窄、去除效率高的纳米高纯硅研磨粒子，实现了抛光液
核心原材料自主可控。
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详细信息 纳米高纯硅研磨粒子是抛光液*主要的组成部分，在抛光过程中通过微切削、滚压等方式作用于 被加工材料表面，达到机械去除材料的作用。纳米高纯硅是以水玻璃为原材料制备的硅溶胶研磨粒 子。鼎龙自主开发了具有纯度高、粒径分布窄、去除效率高的纳米高纯硅研磨粒子，实现了抛光液 核心原材料自主可控。 |