一、主要特点：
VT系列开启式立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于60℃，高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料，不含污物，洁净，美观。采用模糊PID控制精准控制，温场均匀，烧结成品一致性好。主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。
二、技术参数：
炉管尺寸：Φ 50×1000mm
炉管材质：99高纯刚玉管
**温度：1700℃
工作温度：1600℃
恒温精度：±1℃
升温速度：1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min
法兰：水冷法兰
控温方式：采用全自动控制系统，从室温到设定温度设定程序后，可以自动运行。优质功率调整器输出平稳电流，极大程度的延长了加热元件的使用寿命，使用变压器调压，可编程序30段，多段功率限制功能，多组PID参数自整定功能，可自由设定恒温与保温曲线。超温报警、过温保护限制器，仪表具有温度校正和补偿功能。
加热区：400mm 恒温区：200mm
加热元件：优质硅钼棒
温度传感器：B型双铂铑
密封系统：炉管两端配有不锈钢密封法兰（包括精密针阀，指针式真空压力表和软管式宝塔嘴接头、端口可按实际使用扩展。）根据实验真空度要求，可选配不同真空泵，如机械泵（极限真空可达10-1Pa），分子泵（真空度10-3pa）
提示：刚玉管不能在1500度以上的条件下抽真空。
二、加热性能控制
1、电源：380V
2、功率：9KW
3、显示精度:±1℃
4、冲温值：<±3℃
5、控制特点：控制系统模块化结构，设备关键部件长寿命设计，工艺简单可靠、稳定性好、精度高。