主要特点：该真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或其他真空机组， 非常适合于试验和小批量生产之用。
该设备为密封式是加热腔体，确保设备可在真空条件下，或者一些特殊气氛条件下使用，相比普通箱式炉，使用环境更灵活，使用范围更广泛。
技术参数：
设备型号 | LFM1200C1VC |
**温度 | 1200℃ |
使用温度 | ≤1100℃ |
炉膛有效尺寸 | 100*100*100mm（W×H×D） |
炉膛材料 | 氧化铝、高铝纤维制品 |
热电偶类型 | K型热热偶 |
控温精度 | ±1℃， 30段可编程控温，PID参数自整定，触摸屏控制 |
加热元件 | 电阻丝 |
冷态极限真空 | ≤100-400Pa |
外观处理 | 白色 |
电源 | 单相，220±10%，50HZ |
**加热功率 | 1Kw |