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柜谷科技发展(上海)有限公司  

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首页 > 供应产品 > 日立荧光分布成像系统
日立荧光分布成像系统
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发货 上海市浦东新区
品牌 宏光磨具
型号 ZW型
过期 长期有效
更新 2025-11-15 10:54
 
详细信息

产品创新点

上市时间:2019年10月

创新点主要有两个方面:硬件方面:全球首创将将荧光分光度计与CMOS相机结合在一起,能够同时观察样品光谱和图像的技术。软件方面:运用了智能光谱算法,可以获取样品任意区域的光谱信息。常规的荧光分光光度计测得的是样品表面信息平均化的信号,得到的是一条荧光光谱,这个新的系统能够对样品表面进行分区,从而获得不同区域的光谱信号,使得光谱信息细致化了。

产品简介1. 荧光分布成像系统(EEM View)简介

作为荧光分光光度计的配件系统,这是全球首创将相机与荧光分光光度计的**结合,融合了智能算法的先进技术。能够同时获取样品图像和光谱信息。

新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射 光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品,利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱,结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像,并利用独特的AI光谱图像处理算法,可以同时得到反射和荧光图像。

2. 荧光分布成像系统特点:

①测定样品的光谱数据(反射光、荧光特性)

②在不同光源条件下(白光和单色光)拍摄图像(区域:Φ20mm、空间分辨率:0.1 mm左右、波长范围:360-700nm)

③利用自主研发的分析系统1),分开显示荧光图像和反射图像

④根据图像可获得不同区域的光谱信息(荧光光谱、反射光谱)

国立信息学研究所 佐藤IMARI 教授?郑银强副教授共同研究成果

荧光分布成像系统软件分析(EEM View Analysis)界面(样品:LED电路板)