外延在现代半导体行业中是关键的一环，在其关键设备MOCVD中，我们的SiC涂层盘被广泛应用。我们的化学气相沉积的SiC涂层解决工艺有以下几大优势：
1、出色的抗热冲击阻力
2、出色的抗物理冲击阻力
3、出色的耐化学性
4、超高纯度
5、可加工成各种复杂的形状
6、在氧化环境下仍然可以使用
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详细信息 外延在现代半导体行业中是关键的一环，在其关键设备MOCVD中，我们的SiC涂层盘被广泛应用。我们的化学气相沉积的SiC涂层解决工艺有以下几大优势： 1、出色的抗热冲击阻力 2、出色的抗物理冲击阻力 3、出色的耐化学性 4、超高纯度 5、可加工成各种复杂的形状 6、在氧化环境下仍然可以使用 |