第二十五届全国半导体物理学术会议将于2025年10月16日至19日在湖南长沙隆重举行。作为国内半导体物理领域规模最大、影响力最广的学术盛会之一，本次会议将汇集包括多位院士在内的2000余位专家学者，共同探讨半导体物理的最新进展与未来趋势。
本次会议由中国物理学会半导体物理专业委员会、中国科学院半导体研究所主办，湖南大学、湖南师范大学、国防科技大学承办，中国电子学会半导体与集成技术专业委员会协办。
MBRAUN 作为半导体工艺设备供应商，很荣幸受邀参与此次盛会。我们将携最新一代高性能镀膜系统亮相会议现场，与各界同仁共话半导体制造中的关键工艺与创新解决方案。
展位号：A07
会议时间和地点
会议时间：2025年10月16-19日（10月16日全天报到）
会议地点：长沙北辰国际会议中心
会议网址：
参展设备抢先知
本次参会展品是布劳恩的重点产品——真空镀膜系统。
MBRAUN开发多种真空镀膜系统，具备丰富的可选配置和定制方案，应用于半导体、钙钛矿太阳能电池、锂电池、OLED / PLED等各种前沿技术领域的研发中，具有以下特点：
灵活紧凑的模块化设计
独立式或与手套箱集成
可定制样品台以及掩膜板
可定制多种蒸发源（金属源、电子束、高/低温温控源）
可定制多种溅射源（圆靶2"~6" 、方形靶、低损伤溅射等）
膜厚均匀性：+/-3 % ，特殊定制可实现+/-1 %
全自动控制传样系统实现多腔室样品互传
全自动镀膜控制系统实现配方化工艺参数管理
我们诚挚地邀请您拨冗出席本次盛会，与MBRAUN一起探索半导体工艺的未来路径，共同推动中国半导体技术的创新与发展。
MBRAUN——工艺创新，共镀未来。