热丝CVD采用高温下的低压气相反应，碳氢化合物在高温下发生化学反应，生成膜先驱物，当样品温度合适时，这些膜先驱物在样品表面沉积形成金刚砂膜。低压化学气相沉积形成的膜层厚度及成分较为均匀，膜层致密。
CVD化学气相沉积的基本特征为:
1.产生化学变化(化学反应或热分解);
2.膜中所有材料都来源于外部的源;
3.反应物必须以气相形式参与反应
化学气相沉积是以化学反应方式制作薄膜。其原理是将含有制膜材料的反应气体通到基片上，在基片上发生化学反应形成薄膜，对CVD薄膜生成过程，可以定性地归结为：反应气体通到基片上后，反应气体分子被基片表面吸附，并在基片表面上产生化学反应，形成核，然后反应生成物脱离基片表面，并沿基片表面不断扩散形成薄膜。
1.真空系统：国产优质真空泵和阀门管道。极限真空1pa以下；
2.真空测量：国产优质电阻规（0.1-105pa）和薄膜规（13-13300pa）。测量精度高，重复性好；
3.气体流量控制：国产流量计。氢气流量2000ml/min，甲烷流量100ml/min。氢气流量50ml（掺硼用）。可根据要求定制流量计。
4.压控系统：压控范围0.5-6kpa。控制精度±10pa。
5.热丝电源：国产优质直流电源。根据镀膜产品客户选型号的电源。电源控制精度±10w。
6.控制程序：公司自主开发的镀膜程序。可实现一键镀膜功能。程序对水压，水流，水温，气压等参数进行监控和判断，超过报警值后，程序会停机保护设备。
热丝CVD设备应用领域
热丝cvd金刚石沉积技术适合制备金刚石厚膜和涂层。相较于直流电弧cvd和微波等离子体cvd技术，热丝CVD技术制备的金刚石膜透明性不足，但是该技术镀膜面积大，单炉产量多；设备结构简单，稳定，适合自动化生产。
目前热丝cvd设备可在硬质合金刀具、硅、铌、钽、碳化硅、等材料上镀金刚石膜。
金刚石涂层刀具应用于空航天、新能源、电子电路，精密加工领域，可用于石墨模具，石墨极板，陶瓷牙齿，5G线路板，铝合金，碳纤维等的加工制造。
碳化硅上沉积金刚石膜用于提高器件的耐磨性，延长使用时间。用于易磨损的模具、动密封件。
掺硼导电金刚石膜常镀在硅、铌、钽材料上。利用金刚石的高氧化电位、耐酸碱腐蚀等特点，氧化液体中的有害物质，检测液体成分。应用于污水处理，水质净化，生物检测等领域。