一、主要特点
1、该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;
2、可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间;
3、该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象;
4、本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前**端的金属复合材料制备设备。
二、技术参数
显示模式 | 7"液晶触屏显示 |
**温度 | 1200℃ |
升温速率 | 10℃/S |
加热区长度 | 230mm |
控温精度 | ±1℃ |
加热元件 | 电阻丝 |
热电偶 | K型 |
控温方式 | 7"液晶触屏与工控仪表双重控温，模糊PID控制和自整定调节，人工智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能。 |
炉管尺寸 | Φ25*800mm |
炉管转速 | 3~13r/min |
倾斜角度 | 0~35° |
加热功率 | 3KW |
射频功率输出范围 | 0~500W |
供气系统 | 标配三路质量流量计（50/100/200sccm） |
供电电源 | 220V50Hz |
通讯接口 | USB |
外形尺寸 | 1600mm*650mm*1400mm |
设备净重 | 约220KG |