一、设备简介：
该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，RF射频电源模块，石英管，冷却装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放卷的密封装置），收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。
二、技术参数
1.加热系统
使用温度 | 1200℃ |
使用温度 | ≤1100℃ |
炉管尺寸 | Φ150mm（炉管直径可根据实际需要定制。） |
炉膛材料 | 氧化铝、高温纤维制品 |
热电偶类型 | K型热电偶 |
控温精度 | ±1℃ |
控温方式 | 30段可编程控温，PID参数自整定，操作界面为7”工控电脑，内置PLC控制程序。 |
加热长度 | 200+200+200mm |
加热原件 | 电阻丝 |
供电电源 | 单相，220V，50Hz |
2、PE系统
功率输出范围 | 0W~1000W |
反射功率 | ≤200W |
射频输出接口 | 50 Ω, N-type, female |
功率稳定度 | ≤5W |
谐波分量 | ≤-50dbc |
供电电压 | 单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
整机效率 | >=70% |
功率因素 | >=90% |
冷却方式 | 强制风冷 |
3、三路质子流量控制系统
连接头类型 | 双卡套不锈钢接头 |
标准量程（N2) | 200sccm，500sccm、1000sccm（可根据用户要求定制） |
准确度 | ±1.5%F.S |
线性 | ±1%F.S |
重复精度 | ±0.2%F.S |
响应时间 | 气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
工作压差范围 | 0.1～0.5 MPa |
压力 | ≤3MPa |
接口 | Φ6,1/4'' |
显示 | 4位数字显示 |
工作环境温度 | 5~45高纯气体 |
压力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止阀 | Φ6 |
内外双抛不锈钢管 | Φ6 |
4、低真空机组
空气相对湿度 | ≤85% |
工作环境 | 5℃～40℃ |
工作电电压 | 380V |
抽气速率 | 32m³/h |
极限真空 | 5X10-1Pa（空载冷态） |
工作压力范围 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
进气口口径 | KF40 |
排气口口径 | KF40 |
连接方式 | 采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连 |