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详细说明
型号：
水平式长晶炉
HVPE生长系统是自主研发的一台功能强大，耐用，可靠的气相外延生长系统，适用于大尺寸、高质量商业化GaN的同质/异质外延生产。内置新研发的控制系统和多温区加热系统，支持配方功能，方便工艺参数调用及储存，设备结构简单，操作方便，实用性强，能够满足大规模体块GaN的商业化生产需求。
技术参数 | |
生长工艺 | HVPE法 |
产品类型 | 非标定制 |
加热方式 | 电阻式加热/感应式加热 |
**温度 | 1100℃ |
恒温区尺寸 | 100mm |
控制方式 | PLC集成控制 |
系统真空检漏漏率 | ≤5.0×10-7 Pa.l/S |
冷却方式 | 循环水路系统 |
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