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详细说明
型号：
气氛烧结炉
主要用于半导体功率器件、电力电子器件、精密材料、高性能新材料（如陶瓷、陶瓷金属化等）的真空/气氛热处理（如烧结、封装、退火、时效等）等工艺。
产品性能：
200～1350℃/1600℃，6/3点控温
钼（或钨等）加热，六面/全面加热, 圆形+
前后门加热
快冷、真空压力、气氛等的多工艺控制方式
反应室容积大，高洁净，高生产效率
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主要用于半导体功率器件、电力电子器件、精密材料、高性能新材料（如陶瓷、陶瓷金属化等）的真空/气氛热处理（如烧结、封装、退火、时效等）等工艺。
产品性能：
200～1350℃/1600℃，6/3点控温
钼（或钨等）加热，六面/全面加热, 圆形+
前后门加热
快冷、真空压力、气氛等的多工艺控制方式
反应室容积大，高洁净，高生产效率
