|
|||||||||||||||||||||
详细说明
型号：
PECVD系统
范围：
--
应用行业：
该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工厂企业做的理想产品。
产品介绍:
该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，适用于室温至1200℃条件下进行Si02、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，Sic膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料，尤其适合干有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
点赞 0举报收藏 0
