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详细说明
型号:
1600CVD 系统
产品介绍:
KJ-CVD 是一种分体式管式炉,配备60mm直径的石英管,真空泵和四通道质量流量计气体流动系统。可混合1-6种气体进行CVD.
应用范围:
此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
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产品介绍:
KJ-CVD 是一种分体式管式炉,配备60mm直径的石英管,真空泵和四通道质量流量计气体流动系统。可混合1-6种气体进行CVD.
应用范围:
此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。