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详细说明
型号:
碳化硅原料合成炉 HC-SCET1000系列
◆ 设备采用分段式高纯度石墨电阻加热及热场结构,温场均匀性好;
◆ 通过气流路径优化与热场防护技术,具有高腐蚀性气氛下排杂、杂质的定向沉积与热场稳定的特点;
◆ 可满足高品质碳化硅原料合成;设备**装料量达到100KG,大幅提升了原料合成效率。
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◆ 设备采用分段式高纯度石墨电阻加热及热场结构,温场均匀性好;
◆ 通过气流路径优化与热场防护技术,具有高腐蚀性气氛下排杂、杂质的定向沉积与热场稳定的特点;
◆ 可满足高品质碳化硅原料合成;设备**装料量达到100KG,大幅提升了原料合成效率。