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详细说明
型号:
VVWQ-4040D
范围:
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立式真空水淬炉
产品描述:
立式真空水淬炉主要用于航空航天行业中的钛合金固溶处理,如TC4、TC16、TC18、TC21等材料,仪表弹性元件中的铍青铜固溶处理、航天传感器中的镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等精密合金固溶处理,核能领域中17-4PH、410等不锈钢的固溶处理等。
应用范围:
钛合金固溶处理(如TC4、TC16等)、镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等
立式真空水淬炉技术特征
炉体是立式双室结构,依据实际状况可选择一体式结构或分体式结构;
工件承载方式:承载式,相比其它吊柜式结构更安全;
加热室采用钼屏结构;钼加热带采用背绝缘技术;
全过程不需要惰性气体参与,Ar气消耗量为零;
配置一个装料室,可实现连续化生产;
炉胆经模块化优化设计,炉温均匀性好;
垂直升降料车构成的淬火机构,相比卧式传动淬火机构转移时间更短;
专有技术,无须充入其它气体压制水蒸气,彻底防治水蒸气进入加热室并杜绝真空泵组污染;
淬火配置制冷机,水温可达5℃水淬效果更佳;
并且具有可扩展性,提高生产效率;
水蒸气对加热室和真空机组零污染。
立式真空水淬炉产品规格
| 参数型号 | VVWQ-3030D | VVWQ-4040D | VVWQ-5050D | VVWQ-6060D | VVWQ-8060D |
| 有效热区 D×H(mm) | 300×300 | 400×400 | 500×500 | 600×600 | 800×600 |
| 装载重量(Kg) | 50 | 75 | 150 | 200 | 300 |
| 加热功率(Kw) | 60 | 90 | 120 | 150 | 210 |
| **温度(℃) | 1350 | 1350 | 1350 | 1350 | 1350 |
| 温度均匀性(℃) | ±5 | ±5 | ±5 | ±5 | ±5 |
| 真空度(Pa) | 4×10-3/6×10-4 | 4×10-3/6×10-4 | 4×10-3/6×10-4 | 4×10-3/6×10-4 | 4×10-3/6×10-4 |
| 压升率(Pa/h) | ≤0.26 | ≤0.26 | ≤0.26 | ≤0.26 | ≤0.26 |
| ≤0.67 | ≤0.67 | ≤0.67 | ≤0.67 | ≤0.67 | |
| 移送时间(S) | ≤6 | ≤6 | ≤6 | ≤6 | ≤6 |
| 淬火介质 | 纯净水 | 纯净水 | 纯净水 | 纯净水 | 纯净水 |
以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。
立式真空水淬炉配置选择
双室垂直结构形式:整体式、加热室移动式、水槽移动式
炉胆:钼加热元件与全金属隔热屏合成结构
真空泵组和真空计: 进口、高品质国产
PLC:西门子、欧姆龙、三菱
控温仪表:岛电、欧陆、霍尼韦尔
热电偶:K型分度号、N型分度号、S型分度号
记录仪:有纸记录仪、无纸记录仪
人机界面:模拟屏、计算机触摸屏
电器元件:高品质国产、施耐德、西门子
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