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详细说明
型号：
无
范围：
锻造及热处理设备
应用行业：
主要用于CVD实验，也运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备
硅负极（纳米硅、氧化亚硅、多孔硅）CVD气相沉积碳包覆回转炉
适用物料：纳米硅、硅氧（氧化亚硅）、多孔硅
使用工况：CVD气相沉积碳包覆（一次包覆、二次包覆）
均匀包覆碳含量：1.6%-22%（可控可调）
适用气体：氮气、氩气、甲烷、乙炔、氨气（丙酮、苯、乙醇、沥青等）
公司备有多台公斤级、百公斤级硅负极用cvd炉系统免费供客户实验用，公司目前已完成300+批次的硅负极cvd实验，通过客户反馈实验数据不断优化cvd炉的设计。通过大量实验积累了丰富的cvd经验。
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