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详细说明
型号：
氮化硅陶瓷基板炉
范围：
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应用行业：
纳米氧化体在国防、电子、高温结构和功能陶瓷，尤其是在表面涂层等高科技领域有重要应用价值。
产品介绍
氮化硅陶瓷基板炉具有高稳定性、高人性化、低维护的特点，采用非接触式高温测量、真空系统过滤保护、独特尾气处理设计。主要用于氮化硅流延基板先进材料等进行真空，脱气、加压致密化等，广泛应用于航天航空、电子电器半导体等领域。
产品参数
| 装料空间（W*H*L） | 600*600*1400 |
| 温度均匀性 | ≤±4℃ |
| **工作温度 | 2200℃ |
| **工作压力 | 2MPa |
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