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详细说明
型号：
氮化硅压力炉
范围：
200
应用行业：
硅碳负极真空烧结、硅碳负极制备、硅负极焙烧
氮化硅压力炉设备用途:
氨化硅基板，氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点:
1.温度:max2400摄氏度
2.温度分布精度:R10
3.发热体:石墨
4.压力:1Mpa
5.气氛:N2环境，氧含量小于100ppm
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